| 发明名称 | 一种掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法，特征是采用磁控反应溅射仪或自由基辅助溅射仪，由Y与Zr按摩尔比为10－50∶100或由Al与Zr按摩尔比为3.5－9∶10组成的混合靶材作为溅射源；所得到的由稳定化的氧化锆高折射率层和非晶SiO<SUB>2</SUB>低折射率层交替堆叠而成的多层膜，其中稳定化的氧化锆是掺Y<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>或Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>作稳定剂的ZrO<SUB>2</SUB>；若掺杂的是Y<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>，则Y<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>与ZrO<SUB>2</SUB>的摩尔比为5－25∶100；若掺杂的是Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>，则Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>和ZrO<SUB>2</SUB>的摩尔比为1.7－4.5∶10。该多层膜可用作光学薄膜滤波片、灯泡外层滤红外光的薄膜或在500－1000℃高温下进行光学测量用的薄膜器件。 | ||
| 申请公布号 | CN1996055A | 申请公布日期 | 2007.07.11 |
| 申请号 | CN200610161333.8 | 申请日期 | 2006.12.18 |
| 申请人 | 中国科学技术大学 | 发明人 | 黄烽;王海千;李明;谢斌;侯建国;宋亦周;姜友松 |
| 分类号 | G02B1/00(2006.01);C23C14/35(2006.01);C23C14/54(2006.01);C23C14/14(2006.01) | 主分类号 | G02B1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 合肥金安专利事务所 | 代理人 | 金惠贞 |
| 主权项 | 1、一种掺杂稳定化氧化锆的光学膜，是由高折射率层和低折射率层交替堆叠而成的多层膜，其特征在于：所述高折射率层的材料为稳定化的氧化锆，所述低折射率层的材料为非晶SiO2；所述稳定化的氧化锆是掺Y2O3或Al2O3作稳定剂的ZrO2；若掺杂的是Y2O3，则Y2O3与ZrO2的摩尔比为5--25∶100；若掺杂的是Al2O3，则Al2O3和ZrO2的摩尔比为1.7-4.5∶10。 | ||
| 地址 | 230026安徽省合肥市金寨路96号 | ||