| 发明名称 | 正四极照明曝光方法及其装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种正四极照明的曝光方法，用不变化参数的正四极照明连续扫描两块掩模版，所述两块掩模版的图形分别为图形的纵向线条和横向线条。本发明简化了两次曝光的工作流程，提高两次曝光的效率。 | ||
| 申请公布号 | CN1996146A | 申请公布日期 | 2007.07.11 |
| 申请号 | CN200510003375.4 | 申请日期 | 2005.12.31 |
| 申请人 | 上海集成电路研发中心有限公司;上海华虹（集团）有限公司 | 发明人 | 姚峰英 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G03F7/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人 | 王洁 |
| 主权项 | 1、一种正四极照明的曝光方法，其特征在于用不变化参数的正四极照明连续扫描两块掩模版，所述两块掩模版的图形分别为图形的纵向线条和横向线条。 | ||
| 地址 | 201203上海市张江高科技园区碧波路177号华虹科技园4楼 | ||