| 发明名称 | 基板刻蚀监测方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种基板刻蚀监测方法，其在与被刻蚀基板的一个侧边对应的位置设置一个EPS传感器，在与被刻蚀基板另一侧边对应的位置设置至少一个EPS传感器。本发明利用多个EPS传感器对基板的刻蚀情况进行监测，能够较准确的反映基板当前的状态，避免出现刻蚀不完全的情况。 | ||
| 申请公布号 | CN1996566A | 申请公布日期 | 2007.07.11 |
| 申请号 | CN200510112262.8 | 申请日期 | 2005.12.28 |
| 申请人 | 上海广电NEC液晶显示器有限公司 | 发明人 | 田广彦 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01);H01L21/306(2006.01);H01L21/465(2006.01);G02F1/136(2006.01) | 主分类号 | H01L21/66(2006.01) |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人 | 薛琦 |
| 主权项 | 1、一种基板刻蚀监测方法，其在与被刻蚀基板的一个侧边对应的位置设置一个EPS传感器，其特征在于，在与被刻蚀基板另一侧边对应的位置设置至少一个EPS传感器。 | ||
| 地址 | 201108上海市闵行区华宁路3388号 | ||