发明名称 具有源极连接的场板的宽带隙场效应晶体管
摘要 一种场效应晶体管包含依次形成于衬底上的缓冲层与沟道层。源极(18)、漏极(20)、及栅(22)皆形成电接触于该沟道层,且该栅位于该源极与漏极的之间。间隔层(26)形成于该栅与漏极之间的沟道层的至少一部分表面上,并且场板(30)形成于该间隔层上且隔离于该栅与沟道层。该场板(30)间隔层通过至少一个导电路径电连接到该源极,其中该场板减小该MESFET内的峰值工作电场。
申请公布号 CN1998089A 申请公布日期 2007.07.11
申请号 CN200580014866.7 申请日期 2005.04.21
申请人 美商克立股份有限公司 发明人 吴益逢;P·帕里克;U·米史拉;M·摩尔
分类号 H01L29/812(2006.01);H01L29/41(2006.01) 主分类号 H01L29/812(2006.01)
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 陈斌
主权项 1.一种金属半导体场效应晶体管(MESFET),它包含:缓冲层,它位于衬底上;沟道层,它位于所述缓冲层上,且所述缓冲层被夹置于所述沟道层和所述衬底之间;源极,它与所述沟道层电接触;漏极,它也与所述沟道层电接触;栅,其与所述源极和所述漏极之间的所述沟道层电接触;间隔层,它位于所述栅与所述漏极之间的所述沟道层的至少一部分之上;以及场板,它单独位于所述间隔层上且与所述沟道层和栅相隔离,所述场板通过至少一个导电路径电连接到所述源极。
地址 美国北卡罗莱纳州