| 发明名称 | 判断光刻系统的照射器的照射强度轮廓的装置及方法 | ||
| 摘要 | 一种产生照射器(14)的照射强度轮廓的系统(30)及方法，该照射器(14)形成投射光刻系统(10)的一部分。投射由该照射器产生的辐射至具有多个开孔(34)的照射轮廓掩膜(32)上，使得每个开孔都递送该辐射的特定部分。检测辐射的每个特定部分的强度，然后组合而形成照射强度轮廓。 | ||
| 申请公布号 | CN1997941A | 申请公布日期 | 2007.07.11 |
| 申请号 | CN200580013170.2 | 申请日期 | 2005.04.20 |
| 申请人 | 先进微装置公司 | 发明人 | C·A·斯彭斯;T·P·卢坎奇;L·卡波迪耶奇;J·赖斯;S·N·麦高恩 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 戈泊;程伟 |
| 主权项 | 1.一种判定投射光刻系统(10)照射强度轮廓的方法，该光刻系统(10)横跨于对应所期望晶片(12)曝光位置的平面，该方法包括：放置照射轮廓掩膜(32)于由照射器(14)定义的照射场中，该照射轮廓掩膜具有多个开孔(34)，而且每个开孔都供由该照射器所输出的辐射特定部分穿过；放置传感器阵列(40)于该照射场中，以分别检测辐射的各特定部分；以及依据该传感器阵列的检测结果，建构该照射强度轮廓。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||