垂直磁记录介质软磁性底层用钴基合金靶材的制造方法

摘要

垂直磁记录介质软磁性底层用钴基合金靶材的制造方法，包括下述步骤，按量取Co、Ta、Zr三种元素原料放入坩埚中，进行真空熔炼并浇铸成铸锭，将所得铸锭进行热等静压，后进行热轧变形；将热轧锭进行机加工制得所需形状的靶材。本发明工艺方法简单，成本低，材料性能好且质量稳定，所生产的钴钽锆合金靶材纯度高、成份均匀、透磁率高，适于工业化生产，可替代现有垂直磁记录介质软磁性底层用钴基合金靶材的生产方法。

主权项

1、垂直磁记录介质软磁性底层用钻基合金靶材的制造方法，其特征是，该方法包括下述步骤，(1)、按所设计的钴基合金靶材的元素含量计算所需的Co、Ta、Zr三种元素的重量；(2)、根据(1)步所需的Co、Ta、Zr三种元素的重量，取纯度均在99.9％以上的Co、Ta、Zr三种元素原料；(3)、将(2)步所取的三种元素原料放入坩埚中，进行真空熔炼并浇铸成铸锭，其中，熔炼温度为1400～1600℃，熔炼时真空度在10-1Pa以上；(4)、将(3)步所得铸锭进行热等静压，温度为1000～1250℃，压力为100～200MPa；(5)、将(4)步所得铸锭进行至少一次低温热轧变形及高温热轧变形，低温热轧温度在200～500℃，高温热轧温度在800～1200℃范围内；(6)将(5)步所得热轧锭进行机加工制得所需形状的靶材。