| 发明名称 | 用于保存和使用光掩模的装置以及使用该装置的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于保存至少一个用于光刻投影的光掩模(5)的装置以及在一种曝光设备中使用该装置的方法。设置了一种吹洗机构(44)，它通过一个容器的一个底板活门(34)与一个光掩模(5)相连接。在该光掩模(5)的范围内的杂质借助于吹洗用气体予以去除，用于防止在该光掩模(5)上形成晶体。为了能够高效地去除已有的晶体，借助于一个微波源(80)或红外线源(90)进行激励。本发明还涉及在一种曝光设备中使用该装置的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1996142A | 申请公布日期 | 2007.07.11 |
| 申请号 | CN200610170124.X | 申请日期 | 2006.12.22 |
| 申请人 | 奇梦达股份公司;奇梦达里奇蒙有限责任公司 | 发明人 | A·邦尼斯;M·乔德胡里;K·埃杰斯;A·弗兰根;N·卡利斯;W·克勒;C·霍克;M·勒宁;M·罗斯纳;R·孔杰;C·诺尔舍 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F1/08(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 曹若;胡强 |
| 主权项 | 1.用于保存和使用至少一个用于光刻投影的光掩模(5)的装置，包括：-一个适合于容纳一个光掩模(5)的容器(30)，该容器(30)具有一个容器壳体(32)和一个处于该容器壳体(32)上的可闭锁的用于放入和取出光掩模(5)的打开机构(34)，其中所述容器(30)具有至少一个进气口(40)，该进气口(40)如此布置，从而在对光掩模进行吹洗时一种吹洗气体以一种层流流动对所述光掩模(5)进行环绕吹洗。 | ||
| 地址 | 德国慕尼黑 | ||