发明名称 Non-corrosive cleaning composition for removing plasma etching residues
摘要
申请公布号 KR100736061(B1) 申请公布日期 2007.07.06
申请号 KR20027006222 申请日期 2002.05.15
申请人 发明人
分类号 D01F6/62;C11D7/32 主分类号 D01F6/62
代理机构 代理人
主权项
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