| 发明名称 |
Zusammensetzung zur Entschichtung von Photoresist |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE60128501(D1) |
申请公布日期 |
2007.07.05 |
| 申请号 |
DE20016028501 |
申请日期 |
2001.02.22 |
| 申请人 |
SHIPLEY CO. |
发明人 |
SAHBARI, JAVAD J.;SAHBARI, SHAWN J. |
| 分类号 |
G03F7/42;C11D1/62;C11D3/00;C11D3/20;C11D3/26;C11D3/28;C11D3/34;C11D3/43;C11D7/26;C11D7/32;C11D7/34;C11D7/50;C11D7/60;C11D11/00;C11D17/08;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/42 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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