| 发明名称 | 磁记录介质的硅基底及其制造方法以及磁记录介质 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种用于磁记录介质的硅基底，即使其为易碎材料制成的硅基底，也不易于在基底边缘面上产生碎片或者在基底上产生裂缝，并且防止从基底边缘面上产生的碎屑，以及防止由于摩擦加工盒而产生的碎屑。因此，在用于磁记录介质的硅基底中，在基底的主表面与边缘面之间提供了倒角部分，该边缘面与基底的倒角部分具有镜面光洁度，并且半径大于或等于0.01mm且小于0.3mm的曲表面介于基底主表面与倒角部分之间。在形成该曲表面过程中，制备具有叠置的多个硅基底与间隔物的硅基底叠层，并且刷子抛光该基底中心孔的内圆周和该基底的外圆周。 | ||
| 申请公布号 | CN1993736A | 申请公布日期 | 2007.07.04 |
| 申请号 | CN200580026818.X | 申请日期 | 2005.08.04 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 会田克昭 |
| 分类号 | G11B5/73(2006.01);G11B5/84(2006.01);G11B5/82(2006.01) | 主分类号 | G11B5/73(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 杨晓光;李峥 |
| 主权项 | 1.一种用于磁记录介质的硅基底，包括位于该基底的主表面与边缘面之间的倒角部分，其中所述边缘面与所述基底的倒角部分具有镜面光洁度，并且半径大于或等于0.01mm并小于0.3mm的曲表面介于所述基底的所述主表面与所述倒角部分之间。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||