薄膜晶体管基板的制造方法

摘要

本发明公开了一种适于使用三轮掩模工序同时形成良好布图设计并去除阶梯差的薄膜晶体管基板制造方法。根据本发明的薄膜晶体管基板制造方法，包括：在基板上形成栅线；形成与栅线交叉并在其间具有栅绝缘膜的数据线；在栅线和数据线的交叉部分形成薄膜晶体管；在形成有薄膜晶体管的栅绝缘膜上形成钝化膜以后，形成用于露出将要形成接触孔和像素电极的区域的第一光刻胶图案；在沉积透明导电膜以后，形成第二光刻胶图案，该第二光刻胶图案暴露出形成于除将要形成接触孔和像素电极的区域以外区域的透明导电膜；以及在对由所述第二光刻胶图案暴露出的透明导电膜进行蚀刻以后，通过去除留在钝化膜上的第一和第二光刻胶图案形成钝化膜和像素电极。

主权项

1、一种薄膜晶体管基板的制造方法，包括：在基板上形成栅线；形成与所述栅线交叉并在其间具有栅绝缘膜的数据线；在所述栅线和数据线的交叉部分形成薄膜晶体管；在形成有所述薄膜晶体管的栅绝缘膜上形成钝化膜以后，形成用于对将要形成接触孔和像素电极的区域进行开口的第一光刻胶图案；在形成有所述第一光刻胶图案的钝化膜的整个表面上沉积透明导电膜以后，形成第二光刻胶图案，该第二光刻胶图案暴露出形成于除将要形成接触孔和像素电极的区域以外区域的透明导电膜；以及通过对由所述第二光刻胶图案暴露出的透明导电膜进行蚀刻以后，通过去除留在钝化膜上的第一和第二光刻胶图案形成其上形成有接触孔的所述钝化膜和像素电极。