用于磁记录介质的硅基底、制造硅基底的方法以及磁记录介质

摘要

在用于磁记录介质的硅基底中，在所述基底的主表面与端面之间的周部分处设置半径为0.01mm至0.05mm的曲面。所述曲面可以设置在所述基底的外周或内周。优选地，所述端面和所述主表面的表面粗糙度的最大高度分别小于等于1μm和小于等于10nm。一种制造硅基底的方法包括以下步骤：在所述硅基底的中心处形成圆孔；将所述基底浸入其中颗粒悬浮的抛光液中；以及分别抛光所述基底的外和内周端面。在抛光各端面时，抛光刷接触所述端面，同时在所述端面与所述抛光刷之间进行相对旋转。

主权项

1.一种用于磁记录介质的硅基底，其中在所述基底的主表面与端面之间的边缘部分处设置半径为0.01mm至0.05mm的曲面。