| 发明名称 | 等离子体处理装置、生成等离子体反应容器的制造方法及等离子体处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种等离子体处理装置，该等离子体处理装置能够每次处理较大面积，并具有良好的处理均匀性。该装置包括具有通孔的一对电极板和具有通孔的绝缘板。该绝缘板被设置于电极板之间，从而使得电极板的通孔位置对应于绝缘板的通孔位置。从而，由电极板的通孔和绝缘板的通孔形成多个放电空间。通过供应等离子体生成气体到放电空间中，并且在电极板之间施加电压，同时，在放电空间同时生成等离子体。通过将由此生成的等离子体喷射到待处理物体上，有效进行大面积等离子体处理。 | ||
| 申请公布号 | CN1323751C | 申请公布日期 | 2007.07.04 |
| 申请号 | CN200480001115.7 | 申请日期 | 2004.05.26 |
| 申请人 | 松下电工株式会社 | 发明人 | 柴田哲司;山崎圭一;田口典幸;泽田康志 |
| 分类号 | B01J19/08(2006.01);C23C4/00(2006.01);H05H1/24(2006.01);H01L21/304(2006.01);H05K3/26(2006.01) | 主分类号 | B01J19/08(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 张龙哺;郑特强 |
| 主权项 | 权利要求书1.一种等离子体处理装置，用于通过放电激活等离子体生成气体，并且将活化的等离子体生成气体喷射到物体上，所述装置具有由绝缘部件形成的反应容器，并且该反应容器包括：多个通孔，每个通孔在其一端具有用于等离子体生成气体的流入开口，以及在其相对端具有用于活化的等离子体生成气体的流出开口；以及用于在每个所述通孔中进行放电的电极。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||