液晶显示装置的阵列基板及其制造方法

摘要

本发明提供了一种LCD装置的阵列基板及其制造方法。该阵列基板包括：形成在该基板上的选通线、栅极、选通焊盘和像素电极；形成在所述基板上的暴露出选通线和像素电极的栅绝缘层；与和所述选通线交叉的数据线相连的源极、隔着沟道与所述源极面对的漏极、形成在所述数据线的一端处的数据焊盘、以及与所述像素电极和所述选通线的部分交叠的电容电极；构成所述源极与所述漏极之间的沟道的半导体层；分别形成在所述选通焊盘、所述数据焊盘、所述电容电极和所述漏极中的第一、第二、第三和第四接触孔；以及分别形成在所述第一到第四接触孔中的第一到第四接触电极。

主权项

1、一种制造液晶显示装置的阵列基板的方法，该方法包括：在基板上形成透明导电层；在所述透明导电层上形成不透明导电层；对所述透明导电层和所述不透明导电层进行构图，以形成选通线、栅极、选通焊盘和透明像素电极，其中所述选通线、所述栅极和所述选通焊盘均包括所述不透明导电层的部分和所述透明导电层的部分；在所述基板上顺次形成栅绝缘层、半导体层和数据金属层；在所述数据金属层上形成具有不同厚度的多个区域的第二光刻胶图案；利用所述第二光刻胶图案作为掩模，对所述栅绝缘层、所述半导体层和所述数据金属层进行构图，以形成数据线、数据焊盘、电容电极和至少一个接触孔；在所述第二光刻胶图案上形成接触电极层和第三光刻胶层，并对所述第三光刻胶层进行灰化以在所述至少一个接触孔内形成灰化后的第三光刻胶图案；使用所述灰化后的第三光刻胶图案对所述接触电极层进行蚀刻，以在所述至少一个接触孔的每一个中形成接触电极；对所述第二光刻胶图案进行灰化以使所述数据金属层的一部分露出，并使用所述第二光刻胶图案对所述数据金属层的露出部分进行蚀刻，以在漏极和与所述数据线相连的源极之间形成沟道；以及除去所述灰化后的第二光刻胶图案和所述灰化后的第三光刻胶图案。