| 发明名称 | 等离子体辅助掺杂 | ||
| 摘要 | 本发明为各种掺杂过程提供了激发、调节和维持等离子体的方法和装置。在一个实施例中，在等离子体催化剂(240)存在的情况下，通过使气体受到一定量的电磁辐射，在腔(285)中形成等离子体(610)，并将至少一种掺杂材料加入等离子体，来掺杂衬底(250)。然后允许所述材料浸入入衬底。本发明还提供了各种活性和惰性催化剂。 | ||
| 申请公布号 | CN1324114C | 申请公布日期 | 2007.07.04 |
| 申请号 | CN03810271.4 | 申请日期 | 2003.05.07 |
| 申请人 | 达纳公司 | 发明人 | S·库马尔;D·库马尔 |
| 分类号 | C10G15/00(2006.01);C10G11/02(2006.01);C23F1/02(2006.01);C09K11/07(2006.01);H01L21/306(2006.01);H01L21/84(2006.01);B05D5/12(2006.01);B05D3/06(2006.01) | 主分类号 | C10G15/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 杨晓光;于静 |
| 主权项 | 权利要求书1、一种使用等离子体催化剂掺杂衬底的方法，该方法包括：在等离子体催化剂存在的情况下，通过使用于形成等离子体的气体受到频率小于约333GHz的电磁辐射，在第一腔中形成等离子体，其中在容器中形成所述腔；将至少一种掺杂剂加入所述等离子体；将所述掺杂剂从所述等离子体运送到所述衬底的第一表面；以及使所述至少一种掺杂剂在一段浸入时间内浸入所述衬底的所述第一表面以下进入所述衬底。 | ||
| 地址 | 美国俄亥俄州 | ||