| 发明名称 | 高分子化合物、酸发生剂、正型抗蚀剂组合物、和抗蚀图案形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种可以构成能形成LER降低的高清晰度的图案的正型抗蚀剂组合物的高分子化合物、由该高分子化合物构成的酸发生剂、含有该高分子化合物的正型抗蚀剂组合物、和使用了该正型抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述高分子化合物含有：从具有酸解离性溶解抑制基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a1)、用下述通式(a2－1)表示的结构单元(a2)、从含有含极性基团的脂肪族多环式基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a3)，在式中，R是氢原子或者低级烷基；A是2价的有机基团；B是1价的有机基团；X是硫原子或者碘原子；n是1或者2；Y是至少一个氢原子可以被氟原子取代的直链、支链或者环状的烷基。 | ||
| 申请公布号 | CN1993394A | 申请公布日期 | 2007.07.04 |
| 申请号 | CN200580026129.9 | 申请日期 | 2005.07.01 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 松丸省吾;竹下优;岩井武;羽田英夫 |
| 分类号 | C08F220/38(2006.01);C08F220/22(2006.01);G03F7/039(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | C08F220/38(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李贵亮 |
| 主权项 | 1.一种高分子化合物，其特征在于，包含：从具有酸解离性溶解抑制基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a1)、用下述通式(a2-1)表示的结构单元(a2)、和从含有含极性基团的脂肪族多环式基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a3)；【化1】<img file="A2005800261290002C1.GIF" wi="889" he="713" />在式中，R是氢原子或者低级烷基，A是2价的有机基团，B是1价的有机基团，X是硫原子或者碘原子，n是1或者2，Y是至少一个氢原子可以被氟原子取代的直链、支链或者环状的烷基。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||