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发明名称 method for forming silicon film by Atomic Layer Deposition
摘要
申请公布号 KR100734393(B1) 申请公布日期 2007.07.02
申请号 KR20050114400 申请日期 2005.11.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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