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发明名称
用于转印制程之磁场辅助均匀施压装置
摘要
一种用于转印制程之磁场辅助均匀施压装置,包含:至少一模压单元、至少一调整单元及至少一驱动单元。该模压单元具有可相互对合的一第一模板与一第二模板,该第一模板是供一物料设置,该第二模板具有可压印该物料一浆料层的至少一模压面;该调整单元具有一均压板,及分别形成在该均压板与该模压单元且相互排斥的一第一磁区与一第二磁区磁性。该驱动单元是可驱动该均压板相对该模压单元位移,使该第一、第二模板受该第一、第二磁区的磁力影响,相互对合且调整对合时的平行度。
申请公布号
TW200725692
申请公布日期
2007.07.01
申请号
TW094147010
申请日期
2005.12.28
申请人
财团法人精密机械研究发展中心;逢甲大学 FENG CHIA UNIVERSITY 台中市西屯区文华路100号
发明人
蔡宜寿;陈嘉铭;锺添淦;易子民;刘旺林
分类号
H01L21/027(2006.01)
主分类号
H01L21/027(2006.01)
代理机构
代理人
恽轶群;陈文郎
主权项
地址
台中市西屯区工业区三十七路27号
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