面板蚀刻制程的方法及其装置

摘要

一种面板蚀刻制程的方法及其装置，系使被蚀刻的面板沉浸在蚀刻液中，并于蚀刻的进行过程中使该面板顺沿其板面的平行方向作上、下及(或)左、右方位的往复式位移，使蚀刻液可均匀地接触面板表面，以获致均匀的蚀刻效果，并藉由该面板与蚀刻液之间的相对运动，使蚀刻出的残屑可迅速从该表面分离，达提高蚀刻效率之目的。