发明名称 离子源及使用该离子源之模具抛光装置
摘要 本发明涉及一种离子源及使用该离子源之模具抛光装置。该模具抛光装置包括一离子源,该离子源用于发射进行抛光之离子束,该离子源包括一腔体及设置于该腔体中之一阴极灯丝、一阴极、一屏极、一加速极及一可调屏极,该阴极靠近该阴极灯丝设置,该屏极、加速极及可调屏极依次远离该阴极设置,该可调屏极包括一通孔,该通孔大小及形状可调,从而可利用该通孔调节射出之离子束截面大小及形状。利用本明之模具抛光装置,可获得中心线平均表面粗糙度处于0.2~1奈米之平滑表面。
申请公布号 TW200724355 申请公布日期 2007.07.01
申请号 TW094144748 申请日期 2005.12.16
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 发明人 陈杰良
分类号 B29C45/26(2006.01) 主分类号 B29C45/26(2006.01)
代理机构 代理人
主权项
地址 台北县土城市自由街2号
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