发明名称 | 离子源及使用该离子源之模具抛光装置 | ||
摘要 | 本发明涉及一种离子源及使用该离子源之模具抛光装置。该模具抛光装置包括一离子源,该离子源用于发射进行抛光之离子束,该离子源包括一腔体及设置于该腔体中之一阴极灯丝、一阴极、一屏极、一加速极及一可调屏极,该阴极靠近该阴极灯丝设置,该屏极、加速极及可调屏极依次远离该阴极设置,该可调屏极包括一通孔,该通孔大小及形状可调,从而可利用该通孔调节射出之离子束截面大小及形状。利用本明之模具抛光装置,可获得中心线平均表面粗糙度处于0.2~1奈米之平滑表面。 | ||
申请公布号 | TW200724355 | 申请公布日期 | 2007.07.01 |
申请号 | TW094144748 | 申请日期 | 2005.12.16 |
申请人 | 鸿海精密工业股份有限公司 | 发明人 | 陈杰良 |
分类号 | B29C45/26(2006.01) | 主分类号 | B29C45/26(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 台北县土城市自由街2号 |