发明名称 液体制造装置、液浸曝光装置、以及元件制造方法
摘要 本发明之液体制造装置16具备测量供应至曝光装置EX之液体LQ状态之测量装置61K,将测量装置61K之测量结果输出至曝光装置EX。
申请公布号 TW200725196 申请公布日期 2007.07.01
申请号 TW095147611 申请日期 2006.12.19
申请人 尼康股份有限公司 发明人 木田佳己;白石健一
分类号 G03F7/20(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 日本