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发明名称
液体制造装置、液浸曝光装置、以及元件制造方法
摘要
本发明之液体制造装置16具备测量供应至曝光装置EX之液体LQ状态之测量装置61K,将测量装置61K之测量结果输出至曝光装置EX。
申请公布号
TW200725196
申请公布日期
2007.07.01
申请号
TW095147611
申请日期
2006.12.19
申请人
尼康股份有限公司
发明人
木田佳己;白石健一
分类号
G03F7/20(2006.01)
主分类号
G03F7/20(2006.01)
代理机构
代理人
桂齐恒;阎启泰
主权项
地址
日本
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