面板蚀刻制程的方法及其装置第四案

摘要

一种面板蚀刻制程的方法及其装置，系使被蚀刻的面板呈水平地在沉浸在蚀刻液中停留于蚀刻液之液面，并于蚀刻的进程中使该面板顺沿其板面的平行方向作行星式的旋动位移，藉由该面板在该蚀刻液中或液面的漂洗运作，使该蚀刻液在该面板的欲蚀刻表面产生连续性的流动，以加速蚀刻效率，并利用该流动使蚀刻液可均匀地接触面板的欲蚀刻表面，因而获致均匀的蚀刻效果。