发明名称 一种制备高平坦度ITO玻璃的方法
摘要 本发明为一种制备高平坦度ITO玻璃的方法,此方法是利用电化学抛光法制备高平坦度的ITO玻璃,其系先设置一具有阴阳极并充满电解液之电解槽,将欲处理之工件置于阳极,利用外加电位或电流作用下,使得电荷集中于尖端,而使所处理之工件表面尖端处,容易与电解液中的负离子产生反应而达到使表面平整的目的。本发明之制备方法简单快速,设备成本低,同时具有可大面积进行抛光,成品平坦度高,并且不会改变原有的导电性及透明性等优点。
申请公布号 TWI283236 申请公布日期 2007.07.01
申请号 TW092122477 申请日期 2003.08.15
申请人 国立中央大学 发明人 林景崎;萧文助;张志雄;李健平
分类号 C03C17/00(2006.01) 主分类号 C03C17/00(2006.01)
代理机构 代理人 洪尧顺 台北市内湖区行爱路176号3楼
主权项 1.一种制备高平坦度ITO玻璃的方法,其系至少包含 下列步骤: (a)设置一电化学抛光系统,该电化学抛光系统至少 包含一电解槽,一阴极,一阳极、一搅拌器以及一 电源供应器; (b)将ITO玻璃置于该阳极; (c)将电解液置入该电解槽中; (d)使该电解液维持均匀搅拌状态; (e)使该电化学抛光系统通电,并维持一稳定电场强 度进行电化学抛光;以及 (f)抛光完成后,即获得抛光后之ITO玻璃。 2.如申请专利范围第1项所述之制备高平坦度ITO玻 璃的方法,其中该电源供应器包含一恒电位仪。 3.如申请专利范围第1项所述之制备高平坦度ITO玻 璃的方法,其中该电解液包含至少一种酸性溶液及 高黏度物质的混合液。 4.如申请专利范围第3项所述之制备高平坦度ITO玻 璃的方法,其中该酸性溶液系选自盐酸、硫酸、磷 酸、硝酸、醋酸之酸性溶液其中之一。 5.如申请专利范围第3项所述之制备高平坦度ITO玻 璃的方法,其中该高黏度物质为甘油、磷酸或醋酸 。 6.如申请专利范围第1项所述之制备高平坦度ITO玻 璃的方法,其中该电解液包含至少二种酸性溶液的 混合液。 7.如申请专利范围第6项所述之制备高平坦度ITO玻 璃的方法,其中该酸性溶液系选自盐酸、硫酸、磷 酸、硝酸、醋酸之酸性溶液其中之一。 8.如申请专利范围第1项所述之制备高平坦度ITO玻 璃的方法,其中该电解液包含0.7-2.0M硫酸以及1.0-2.2 M甘油的混合液。 9.如申请专利范围第8项所述之制备高平坦度ITO玻 璃的方法,其中进行电化学抛光时之电场强度为80- 250V/m。 10.如申请专利范围第9项所述之制备高平坦度ITO玻 璃的方法,其中进行电化学抛光时之抛光时间为50- 500秒。 11.如申请专利范围第1项所述之制备高平坦度ITO玻 璃的方法,其中该电解液为包含0.2-1.0M硫酸、0.1-0.8 M磷酸及0.8-1.5M甘油的混合液。 12.如申请专利范围第11项所述之制备高平坦度ITO 玻璃的方法,其中进行电化学抛光时之电场强度为 50-220V/m。 13.如申请专利范围第12项所述之制备高平坦度ITO 玻璃的方法,其中进行电化学抛光时之抛光时间为 70-450秒。 14.如申请专利范围第1项所述之制备高平坦度ITO玻 璃的方法,其中该电解液为包含0.1-0.8M硫酸以及0.1- 1.5M磷酸的混合液。 15.如申请专利范围第14项所述之制备高平坦度ITO 玻璃的方法,其中进行电化学抛光时之电场强度为 10-200V/m。 16.如申请专利范围第15项所述之制备高平坦度ITO 玻璃的方法,其中进行电化学抛光时之抛光时间为 40-400秒。 17.如申请专利范围第1项所述之制备高平坦度ITO玻 璃的方法,其中该电解液为包含0.3-1.5M盐酸以及0.1- 0.5M硝酸的混合液。 18.如申请专利范围第17项所述之制备高平坦度ITO 玻璃的方法,其中进行电化学抛光时之电场强度为 15-500V/m。 19.如申请专利范围第18项所述之制备高平坦度ITO 玻璃的方法,其中进行电化学抛光时之抛光时间为 100-600秒。 20.一种用于使ITO玻璃表面平坦化之电解液,其系包 含包含至少一种酸性溶液及高黏度物质的混合液 。 21.如申请专利范围第20项所述之用于使ITO玻璃表 面平坦化之电解液,其中该酸性溶液系选自盐酸、 硫酸、磷酸、硝酸、醋酸之酸性溶液其中之一。 22.如申请专利范围第20项所述之用于使ITO玻璃表 面平坦化之电解液,其中该高黏度物质为甘油、磷 酸或醋酸。 23.如申请专利范围第20项所述之用于使ITO玻璃表 面平坦化之电解液,其包含0.7-2.0M硫酸以及1.0-2.2M 甘油的混合液。 24.如申请专利范围第20项所述之用于使ITO玻璃表 面平坦化之电解液,其包含0.2-1.0M硫酸以及0.1-0.8M 磷酸及0.8-1.5M甘油的混合液。 25.一种用于使ITO玻璃表面平坦化之电解液,其系包 含至少二种酸性溶液的混合液。 26.如申请专利范围第25项所述之制备高平坦度ITO 玻璃的方法,其中该酸性溶液系选自盐酸、硫酸、 磷酸、硝酸、醋酸之酸性溶液其中之一。 27.如申请专利范围第25项所述之用于使ITO玻璃表 面平坦化之电解液,其包含0.1-0.8M硫酸以及0.1-1.5M 磷酸的混合液。 28.如申请专利范围第25项所述之用于使ITO玻璃表 面平坦化之电解液,其包含0.3-1.5M盐酸以及0.1-0.5M 硝酸的混合液。 图式简单说明: 第一图 本发明所使用之电化学抛光系统的示意图 。 第二图 ITO玻璃置于阳极之示意图。 第三图 ITO玻璃抛光前之原子力显微镜扫描图。 第四图 ITO玻璃抛光后之原子力显微镜扫描图。 第五图 ITO玻璃抛光前之表面元素分析(ESCA)图谱。 第六图 ITO玻璃抛光后之表面元素分析(ESCA)图谱。
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