发明名称 于基板上涂布一液体之喷嘴装置
摘要 本发明系关于一种于基板上涂布一液体之喷嘴装置,以使一液体可以快速、均匀且尽可能无受力地涂布于一基板上,其中该装置具有一喷嘴本体,其包含数个基本上成一直线排列配置之喷嘴,并具有一基本上垂直延伸扩张且拥有一直线形下方棱边之导向板,该于下方棱边上方之喷嘴皆朝向该导向板,使得于该导向板上形成一液体薄膜,其并流出越过该下方棱边。
申请公布号 TWI283193 申请公布日期 2007.07.01
申请号 TW092118611 申请日期 2003.07.08
申请人 史悌克哈玛科技股份有限公司 发明人 阿纳托许维尔森兹;威尔纳绍尔;安德列亚斯挪林;彼得德赖思;克利斯汀布尔格;马丁钦克尔;玛莲纳史托柏尔
分类号 B05B1/04(2006.01) 主分类号 B05B1/04(2006.01)
代理机构 代理人 李品佳 台北市中山区复兴北路288号8楼之1
主权项 1.一种于基板上涂布一液体之喷嘴装置(22),其中, 该喷嘴装置(22)具有一喷嘴本体(26),其包含数个基 本上成一直线排列配置之喷嘴(36),及一基本上垂 直延伸扩张且拥有一平坦平面之导向板(28),该导 向板包含一直线形下方棱边(64),且该等于下方棱 边(64)上方之喷嘴(36)皆指向该导向板(28)之平坦平 面,以致于该导向板(28)上形成一液体薄膜(84),其并 流出越过该下方棱边(64)。 2.根据申请专利范围第1项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,于喷嘴本体(26)与导向板(28)之间形成一逐 渐向下扩大之缝隙(80)。 3.根据申请专利范围第2项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该逐渐扩大之缝隙(80)系经由该喷嘴本体( 26)之一平坦平面(76)及该导向板(28)之平坦平面所 构成,其以一尖夹角()相互安排设置。 4.根据申请专利范围第3项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该尖夹角()系可调整。 5.根据申请专利范围第4项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该尖夹角()介于0.5至4之间,其最好介于 1至3之间。 6.根据申请专利范围第5项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该尖夹角()介于1.5至2.5之间。 7.根据申请专利范围第6项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该导向板(28)之平坦平面越过该喷嘴本体( 26)之平坦平面(76)而向下延伸扩张。 8.根据申请专利范围第7项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该导向板(26)系直接装设于喷嘴本体(26)上 。 9.根据申请专利范围第8项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,于喷嘴(36)上方之导向板(26)装设于该喷嘴 本体(26)上。 10.根据申请专利范围第9项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,于喷嘴本体(26)与导向板(28)之间具一位于 喷嘴(36)上方之密封件(74)。 11.根据申请专利范围第10项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,于喷嘴本体(26)上设一凹槽用以承接该密 封件(74)。 12.根据申请专利范围第11项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该密封(74)具有一圆形截面。 13.根据申请专利范围第12项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该等喷嘴(36)系由喷嘴本体(26)之直线通孔 所构成,该通孔之入口端(50)于高度上系位于一出 口端(51)之下方。 14.根据申请专利范围第13项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该等喷嘴(36)之入口端(50)滙入一共同之分 配导管(38),其相对于每一喷嘴(36)具有一基本上较 大之截面。 15.根据申请专利范围第14项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该喷嘴(36)之入口端(50)位于一分配导管(38) 之最高点上或其附近。 16.根据申请专利范围第15项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,一位于分配导管(38)下方之供料导管(44),其 经由多个连通导管(54)与该分配导管(38)相连接。 17.根据申请专利范围第16项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该等连通导管(54)超越该分配导管(38)之长 度并均匀等距配置。 18.根据申请专利范围第17项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该导向板(28)至少有一朝向该喷嘴(36)之表 面系由一亲水性材料层(62)所组成。 19.根据申请专利范围第18项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,具有一种装置,于基板(2)及喷嘴装置(22)间 产生一相对运动。 20.根据申请专利范围第19项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该装置具有一单元用以移动该喷嘴装置(22 ),基本上其平行于基板(2)之表面。 21.根据申请专利范围第20项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,具有一线性运动单元以移动基板(2)及/或 喷嘴装置(22)。 22.根据申请专利范围第20项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该喷嘴本体(26)及导向板(28)装设于一托架 臂(32)上。 23.根据申请专利范围第22项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该导向板(28)较基板(2)为宽。 24.根据申请专利范围第23项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,沿着一直线之各个最外部之喷嘴(36)其间 均具有一距离,其大于基板(2)之宽度。 25.根据申请专利范围第24项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,具有一装置(19),用以调整导向板(28)之下方 棱边(64)及基板(2)间之距离。 26.根据申请专利范围第25项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该导向板(28)之下方棱边(64)系一尖锐棱角 。 27.根据申请专利范围第26项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,具有一装置用以打开或关闭预先决定之喷 嘴,特别系针对位于外侧之喷嘴。 28.根据申请专利范围第27项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,喷嘴(36)与导向板(28)间形成一夹角,其角度 范围于90至94之间,最好介于90.5至93之间。 29.根据申请专利范围第28项所述之喷嘴装置(22),其 特征为,该夹角角度介于90.5至92之间。 图式简单说明: 图一 一用于晶圆制造之光罩处理装置之上视图, 其具有一根据本发明之喷嘴装置; 图二 一根据本发明之喷嘴本体之前视图; 图三 一穿过根据图二之喷嘴本体之剖面图; 图四 一根据本发明之喷嘴装置之侧视图; 图五 一根据本发明之喷嘴装置之局部剖面图; 图六 一根据本发明之喷嘴装置之前视图。
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