用于阻挡层之化学机械抛光液

摘要

本发明系提供一种用于钽阻挡层之化学机械抛光液，其包括研磨颗粒A、比研磨颗粒A的尺寸大的研磨颗粒B、三唑类化合物、有机酸和载体。本发明的化学机械抛光液可以使缺陷、划伤、粘污和其它残留明显下降，且通过使用不同尺寸颗粒来调节阻挡层和氧化物层的抛光选择比，以解决两种底物的去除速率不易于各自调整的难题，而且还可以防止金属抛光过程中产生的局部和整体腐蚀，从而提高产品良率。