发明名称 利用光学参考之方法及装置
摘要 本发明揭示一种雷射处理系统,其实施一对准一探针元件(例如一探针接针)与一器件介面元件(例如一电路基板之一接触接点)之方法。首先,该雷射处理系统在一或多个预定位置产生一光学参考光束以校准一参考场。该雷射处理系统接着侦测该探针元件在该参考场中之一位置。该雷射处理系统还决定该器件介面元件在该参考场中之一相对位置。根据该探针元件及该器件介面元件之该位置,该雷射处理系统然后启动该探针元件与该器件介面元件之对准。一项应用中,该探针元件与该器件介面元件之对准进一步包括使该探针元件接触该器件介面元件以完成一电连接。
申请公布号 TW200725794 申请公布日期 2007.07.01
申请号 TW095138326 申请日期 2006.10.18
申请人 GSI集团公司 发明人 强纳森S 伊尔门;派克S 德飞;马克斯M 伟柏;葛瑞格A 美兹格;乔瑟夫V 连多;皮耶儿 伊斐斯 马布克斯;贞司 辛克;杨菲 雏
分类号 H01L21/68(2006.01);H01L21/66(2006.01);H01L21/268(2006.01) 主分类号 H01L21/68(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国