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发明名称
多重光罩曝光系统及其曝光方法
摘要
一种多重光罩曝光系统及其曝光方法。多重光罩曝光系统包含一光罩载台模组,用以支承一第一光罩及一第二光罩,其中第一光罩经一第一光束照射后形成具有一第一图案的第一转换光束,第二光罩经一第二光束照射后形成一具有一第二图案的第二转换光束。此曝光系统亦包含一光束结合器,用以结合第一转换光束及第二转换光束,以形成一结合图案光束,此结合图案光束被投射于具有一光阻层之基板。
申请公布号
TW200725200
申请公布日期
2007.07.01
申请号
TW095131181
申请日期
2006.08.24
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
林本坚
分类号
G03F9/00(2006.01);G03F7/22(2006.01);G02B27/16(2006.01)
主分类号
G03F9/00(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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