发明名称 密接型曝光装置
摘要 本发明提供一种光罩与基板的密接性高之密接型曝光装置。于基板2的外侧周围装设框体3,藉由吸附口56吸附固定。藉由框体3来提升光罩与基板的密接性。又,由于框体3系形成为一体,故藉由吸附可确实予以固定,且能轻易地施行安装拆卸,更准备了自动化。于框体3的背面形成流通沟渠30,施行在框体30与基板2之间所产生的间隙35之吸引,确实施行光罩1与基板2的密接。
申请公布号 TW200725199 申请公布日期 2007.07.01
申请号 TW095127699 申请日期 2006.07.28
申请人 亚多特克工程股份有限公司 发明人 五十岚晃;田口阳介
分类号 G03F9/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/68(2006.01) 主分类号 G03F9/00(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本