化学机械抛光液

摘要

本发明揭露一种化学机械抛光液，其包含至少一研磨颗粒、一化学添加剂以及一载体。其中，该化学添加剂系聚羧酸类化合物及/或其盐类。本发明之化学机械抛光液可以明显降低缺陷率，提高金属表面平坦程度，显着降低金属的抛光速率，并且优化电介质的抛光速率。优化了电介质的抛光速率，扩大工艺参数窗口。