用于清洗光罩之装置及方法

摘要

揭示可自光罩表面移除残余物与微粒物质的积体基材洁净制程。在一实施例中，一臭氧化去离子水处理为第一湿洁净操作。本发明一实施例中，基材洁净制程包含湿洁净操作，其系使用以氢气汽化的去离子水稀释之氢氧化铵系化学洁净溶液。本发明另一实施例中，该基材洁净制程系于实施第一湿洁净操作前，使用一电浆处理。