| 发明名称 |
微影装置及元件制造方法 |
| 摘要 |
在一种浸没微影装置中，藉由减小一基板台上之间隙尺寸或面积及/或覆盖该间隙来减少或防止浸液中之气泡形成。 |
| 申请公布号 |
TW200725194 |
申请公布日期 |
2007.07.01 |
| 申请号 |
TW095143290 |
申请日期 |
2006.11.22 |
| 申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
汉斯 强森;萨巴斯丁 马力亚 乔翰司 康尼森;MARIA JOHANNES;史乔德 尼可拉斯 蓝伯特斯 当德斯;NICOLAAS LAMBERTUS;罗洛夫 费德瑞克 迪 葛瑞夫;克里斯汀 亚历山大 胡根登;荷恩斯 杰可布斯;马汀斯 汉德利克斯 安东尼斯 里恩德斯;MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS;乔翁 乔纳斯 苏菲亚 马莉亚 马汀斯;JOHANNES SOPHIA MARIA;包伯 史崔弗科;简-乔德 寇勒尼斯 凡 德 创恩;CORNELIS;彼得 斯密特;法兰西瑟斯 乔汉那斯 约瑟夫 简森;JOHANNES JOSEPH;米歇尔 瑞潘 |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03F9/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
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| 地址 |
荷兰 |
