| 发明名称 |
具有清洁装置之微影设备及清洁光学元件之方法 |
| 摘要 |
一种EUV微影设备包括一EUV辐射源、一光学元件及一清洁装置。该清洁装置包括一氢自由基源及一与该氢自由基源相连通的流管。该清洁装置被构形成用以提供一氢自由基流且该流管被配置成用以将一氢自由基流提供至一位在该微影设备中的预定位置，以例如用于清洁一聚光器面镜。 |
| 申请公布号 |
TW200725192 |
申请公布日期 |
2007.07.01 |
| 申请号 |
TW095142844 |
申请日期 |
2006.11.20 |
| 申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
马登 马瑞司 乔汉娜 威贺默思 凡 赫本;MAARTEN MARINUS JOHANNES WILHELMUS;德克 让 威尔佛德 昆德拉 |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03F7/26(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
|
| 地址 |
荷兰 |
