阻挡层用之化学机械抛光液

摘要

本发明系提供一种用于钽阻挡层的化学机械抛光剂，其包含一研磨颗粒、一有机膦酸、一四氮唑类化合物以及一载体。根据本发明之化学机械抛光剂能防止金属材料的局部和整体腐蚀；减少衬底表面污染物；降低研磨颗粒的含量；并且在不同金属与氧化物之间可获得合适的抛光选择性。