改善涂布层均匀品质的制程方法

摘要

本发明提供一种改善涂布层均匀品质的制程方法，其中，该方法有下列步骤，首先提供一涂布头以及一基板，利用该涂布头与该基板间之一相对运动使从该涂布头输出的涂料流体可以涂布于基板上；再以一控制方式调节该基板与该涂布头间一涂布珠之压力环境以控制该涂布珠之一上游新月长度或稳定度，使制程落于一无缺陷的涂布窗域内。透过该方法，本发明分别设计了涂布头之结构以及调整基板与涂布头间之攻角，进而控制涂布珠之压力梯度变化，以提升制程之良率。此外，本发明更提供一种方法，透过预测缺陷之频率，并以与该缺陷之频率具有一相位差之一波形来减低涂布珠下游月形之振动，进而达到减少缺陷产生提升制程良率之目的。