以浆料清洗蚀刻容室之装置及方法

摘要

本发明描述清洗来自半导体蚀刻容室或容室组件之残余物之方法，其中一种方法包含将雾化研磨浆料引导至该容室或该等容室组件之至少某些内表面上。本发明亦描述用于进行该等方法之装置。