| 主权项 |
1.一种微影装置,其包含: 一照明系统,其供应一辐射光束; 一折射格栅,其将该光束分成复数个子光束; 个别可控制部件之一阵列,其经组态以便将该等复 数个辐射子光束引导至个别可控制部件之该阵列 中相关联的个别可控制部件上以图案化该光束;及 一投影系统,其将该图案化光束投影于一基板的一 目标区上。 2.如请求项1之微影装置,其中该折射格栅包含: 细长透镜的第一阵列及第二阵列, 其中光束连续穿过细长透镜的该第一阵列及该第 二阵列; 其中每一该等透镜具有一垂直于其伸长轴线的恒 定横截面, 其中细长透镜之该第一阵列之该等透镜经配置以 使其伸长轴线彼此平行,且 其中细长透镜之该第二阵列之该等透镜经配置以 使其伸长轴线垂直于细长透镜之该第一阵列之该 等透镜的伸长轴线。 3.如请求项2之微影装置,其中该等细长透镜之至少 一者之该横截面包含一大体为一圆周之至少一部 分之部分。 4.如请求项2之微影装置,其中细长透镜之该第一阵 列及该第二阵列之至少一者中之该等细长透镜的 该横截面系大体相同。 5.如请求项2之微影装置,其中该等辐射子光束之一 强度分布系由以下至少一者提供: 细长透镜之该第一阵列或该第二阵列之至少一者 中之该等透镜的一形状; 细长透镜之该第一阵列或该第二阵列之至少一者 的一宽度; 细长透镜之该第一阵列及该第二阵列之至少一者 中之该等细长透镜之间的一间隔; 越过细长透镜之该第一阵列或该第二阵列之至少 一者而变化之该等透镜的横截面; 入射于该折射格栅上之该辐射光束的一辐射强度 概况;及 位于该折射格栅与个别可控制部件之该阵列之间 的一或多个衰减器。 6.如请求项1之微影装置,其中每一子光束系聚焦于 该等个别可控制部件之一或多个上。 7.如请求项1之微影装置,其中一单一透镜或透镜组 系用于将所有该等子光束聚焦于个别可控制部件 之该阵列上。 8.如请求项7之微影装置,其进一步包含: 聚焦部件之一阵列,其将来自个别可控制部件之该 阵列的该辐射聚焦于该基板上的复数个光点上。 9.如请求项8之微影装置,其中该单一透镜或透镜组 进一步将来自个别可控制部件之该阵列的该辐射 引导至该等聚焦部件之该阵列上。 10.如请求项1之微影装置,其中: 该照明系统提供至少一另外之辐射光束,且 该光束及该至少一另外之光束被引导至该折射格 栅上且各自被分成子光束。 11.如请求项10之微影装置,其中该光束及该至少一 另外之光束系以一相对于彼此的角度被引导至该 折射格栅,以使源自每一光束之该等子光束之至少 一者重合。 12.如请求项11之微影装置,其中由该照明系统提供 之该光束及该至少一另外之光束系彼此平行并由 一透镜或透镜组以相对角度引导至该折射格栅上 。 13.一种元件制造方法,其包含: 使用一折射格栅将一辐射光束分成复数个子光束; 将该等复数个辐射子光束引导至个别可控制部件 之一阵列中之相关联的个别可控制部件上; 使用个别可控制部件之该阵列以图案化该等复数 个子光束之每一个别子光束;及 将该等图案化光束投影于一基板的一目标区上。 图式简单说明: 图1根据本发明之一实施例,描述一微影装置。 图2根据本发明之一实施例,详细描述用于照明一 基板的配置。 图3解释一折射格栅的运作原理。 图4根据本发明之一实施例,描述一折射格栅。 图5根据本发明之一实施例,描述另一配置。 图6描述图5中展示之配置的一变化。 图7描述图5中展示之配置的另一变化。 |
