| 主权项 |
1.一种光阻图案形成方法,其系使用于以液体充满 光阻膜与物镜间之状态下进行曝光之浸液曝光装 置形成光阻图案者,且包含: 于被处理基板上形成被加工膜; 于形成有上述被加工膜之被处理基板上形成光阻 膜; 于上述光阻膜上形成光阻保护膜;及 形成上述光阻保护膜后使上述光阻膜曝光。 2.如请求项1之光阻图案形成方法,其中上述光阻保 护膜包含水溶性无机膜。 3.如请求项1之光阻图案形成方法,其中上述光阻保 护膜之形成,系包含对于上述液体使上述光阻保护 膜不溶化。 4.如请求项3之光阻图案形成方法,其中上述不溶化 系将上述光阻保护膜进行加热处理。 5.如请求项3之光阻图案形成方法,其中上述不溶化 系照射紫外光或电子束于上述光阻保护膜。 6.如请求项1之光阻图案形成方法,其中包含于上述 光阻膜之曝光后且上述光阻膜之显像前,除去上述 光阻保护膜。 7.一种光阻图案形成方法,其系使用于以液体充满 光阻膜与物镜间之状态下进行曝光之浸液曝光装 置形成光阻图案者,且包含: 于被处理基板上形成被加工膜; 于形成有上述被加工膜之被处理基板上形成光阻 膜; 使上述液体所接触之上述光阻膜表面成为亲水性; 及 使上述光阻膜表面成为亲水性后,使上述光阻膜曝 光。 8.如请求项7之光阻图案形成方法,其中使上述光阻 膜之表面成为亲水性,系将上述光阻膜之表面暴露 于氧化性溶液中。 9.如请求项7之光阻图案形成方法,其中使上述光阻 膜之表面成为亲水性,系将上述光阻膜之表面暴露 于氧化性气氛中。 10.一种光阻图案形成方法,其系使用于以液体充满 光阻膜与物镜间之状态下进行曝光之浸液曝光装 置形成光阻图案者,且包含: 于被处理基板上形成被加工膜; 于形成有上述被加工膜之被处理基板上形成光阻 膜; 于上述光阻膜上形成光阻保护膜; 使上述液体所接触之上述光阻保护膜表面成为亲 水性;及 使上述光阻保护膜之表面成为亲水性后,使上述光 阻膜曝光。 11.如请求项10之光阻图案形成方法,其中上述光阻 保护膜包含水溶性无机膜。 12.如请求项10之光阻图案形成方法,其中上述光阻 保护膜之形成包含对于上述液体使上述光阻保护 膜不溶化。 13.如请求项12之光阻图案形成方法,其中上述不溶 化系将上述光阻保护膜进行加热处理。 14.如请求项12之光阻图案形成方法,其中上述不溶 化系照射紫外光或电子束于上述光阻保护膜。 15.如请求项10之光阻图案形成方法,其中包含于上 述光阻膜之曝光后且上述光阻膜之显像前,除去上 述光阻保护膜。 16.如请求项10之光阻图案形成方法,其中使上述光 阻保护膜之表面成为亲水性系将上述光阻膜之表 面暴露于氧化性溶液中。 17.如请求项10之光阻图案形成方法,其中使上述光 阻保护膜之表面成为亲水性系将上述光阻膜之表 面暴露于氧化性气氛中。 18.一种半导体装置之制造方法,其系使用于以液体 充满光阻膜与物镜间之状态下进行曝光之浸液曝 光装置制造半导体装置者,且包含: 于半导体基板上形成被加工膜; 于形成有上述被加工膜之半导体基板上形成光阻 膜; 于上述光阻膜上形成光阻保护膜;及 于形成上述光阻保护膜后使上述光阻膜曝光。 19.一种半导体装置之制造方法,其系使用于以液体 充满光阻膜与物镜间之状态下进行曝光之浸液曝 光装置制造半导体装置者,且包含: 于半导体基板上形成被加工膜; 于形成有上述被加工膜之半导体基板上形成光阻 膜; 使上述液体所接触之上述光阻膜之表面成为亲水 性;及 使上述光阻膜之表面成为亲水性后,使上述光阻膜 曝光。 20.一种半导体装置之制造方法,其系使用于以液体 充满光阻膜与物镜间之状态下进行曝光之浸液曝 光装置制造半导体装置者,且包含: 于半导体基板上形成被加工膜; 于形成有上述被加工膜之半导体基板上形成光阻 膜; 于上述光阻膜上形成光阻保护膜; 使上述液体所接触之上述光阻保护膜之表面成为 亲水性;及 使上述光阻保护膜之表面成为亲水性后,使上述光 阻膜曝光。 图式简单说明: 图1系表示实施第1实施形态之光阻图案形成方法 之装置构造的图。 图2A-图2D系表示第1实施形态之光阻图案形成方法 之处理流程的图。 图3A-图3D系表示第1实施形态之光阻图案形成方法 之处理流程的图。 图4A及图4B系表示第1实施形态以及先前例之光阻 图案形状的图。 图5系表示实施第2实施形态之光阻图案形成方法 之装置构造的图。 图6A-图6D系表示第2实施形态之光阻图案形成方法 之处理流程的图。 图7A-图7C系表示第2实施形态之光阻图案形成方法 之处理流程的图。 图8A-图8D系表示第3实施形态之光阻图案形成方法 之处理流程的图。 图9A-图9C系表示第3实施形态之光阻图案形成方法 之处理流程的图。 图10A-图10D系表示第4实施形态之光阻图案形成方 法之处理流程的图。 图11A-图11C系表示第4实施形态之光阻图案形成方 法之处理流程的图。 图12A-图12D系表示第5实施形态之光阻图案形成方 法之处理流程的图。 图13A-图13E系表示第5实施形态之光阻图案形成方 法之处理流程的图。 图14A-图14D系表示第6实施形态之光阻图案形成方 法之处理流程的图。 图15A-图15E系表示第6实施形态之光阻图案形成方 法之处理流程的图。 图16A-图16D系表示第7实施形态之光阻图案形成方 法之处理流程的图。 图17A-图17E系表示第7实施形态之光阻图案形成方 法之处理流程的图。 |
