发明名称 MONITOREO DE PROCEDIMIENTO DE LIMPIEZA
摘要 ? Un aparato para monitorear un procedimiento de limpieza para un instrumento médico, que comprende: una cámara de limpieza para recibir y limpiar el instrumento con un líquido de limpieza, un estándar de suciedad removible localizado en dicha cámara de limpieza, el estándar de suciedad mencionado, comprendiendo: dos substratos sustancialmente paralelos separados con dos separadores de grosor substancialmente igual, en donde se forma una brecha entre dichos dos substratos, suciedad en dicha brecha; y por lo menos un sujetador para asegurar dichos dos substratos y dichos dos sensores juntos; un detector de suciedad acoplado a la cámara de limpieza y adaptado para proveer una indicación de la cantidad de suciedad en el estándar de suciedad. El aparato de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado además porque comprende un pozo receptor en la cámara para recibir el estándar de suciedad. El aparato de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado además porque del detector de suciedad comprende una fuente de luz la cual dirige luz a través del estándar de suciedad y un receptor de luz que lee la cantidad de luz dirigida a través del estándar de suciedad. <EMI FILE="06031929_1" ID="1" IMF=JPEG HE=50 WI=50 >
申请公布号 CO5770100(A1) 申请公布日期 2007.06.29
申请号 CO20060031929 申请日期 2006.03.31
申请人 ETHICON INC 发明人 LIN SZU MIN;JACOBS PAUL;WANG JENN HANN;PLATT ROBERT C;ZHU PETER C.
分类号 A61L2/00 主分类号 A61L2/00
代理机构 代理人
主权项
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