发明名称 MONITOREO DE PROCEDIMIENTO DE LIMPIEZA
摘要 ? Un indicador de limpieza para monitorear un procedimiento de limpieza para un instrumento médico, que comprende: dos substratos sustancialmente paralelos separados por dos separadores de grosor sustancialmente igual, en donde se forma una brecha entre los dos substratos; suciedad en la brecha; y por lo menos un sujetador para asegurar los dos substratos y los dos separadores juntos. El indicador de limpieza de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado además porque la suciedad se seca en la brecha. El indicador de limpieza de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado además porque la suciedad se localiza entre los dos separadores. El indicador de limpieza de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado además porque la suciedad se selecciona del grupo que consta de suciedad orgánica, suciedad inorgánica, y sus mezclas. El indicador de limpieza de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado además porque los substratos se forman de un metal. El indicador de limpieza de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado además porque los substratos se forman de un polímero. <EMI FILE="06031931_1" ID="1" IMF=JPEG HE=50 WI=50 >
申请公布号 CO5770101(A1) 申请公布日期 2007.06.29
申请号 CO20060031931 申请日期 2006.03.31
申请人 ETHICON INC 发明人 LIN SZU MIN;PLATT ROBERT C;ZHU PETER C.
分类号 A61L2/00 主分类号 A61L2/00
代理机构 代理人
主权项
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