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发明名称 Method of obtaining flat edging silicon layers on SiO₂ surfaces
摘要
申请公布号 PL194459(B1) 申请公布日期 2007.06.29
申请号 PL20000339396 申请日期 2000.03.31
申请人 POLITECHNIKA LUBELSKA 发明人 OLCHOWIK JAN MARIAN
分类号 C01B33/02;C23C14/04;C23C14/16 主分类号 C01B33/02
代理机构 代理人
主权项
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