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发明名称 Vorrichtung und Verfahren zur Reinigung von Halbleiterwafern
摘要
申请公布号 DE10118167(B4) 申请公布日期 2007.06.28
申请号 DE2001118167 申请日期 2001.04.11
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD. 发明人 CHO, YONG-JOON;LEE, SEUNG-KUN;YUN, YOUNG-HWAN;KWAG, GYU-HWAN
分类号 H01L21/302;H01L21/304;B08B3/02;H01L21/00;H01L21/68 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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