发明名称 |
二氧化硅类微粒、其制备方法、涂膜形成用涂料及覆有涂膜的基材 |
摘要 |
为了得到低折射率的二氧化硅类微粒,制成外壳内部具有多孔物质及/或空腔的中空球状二氧化硅类微粒。通过边调整二氧化硅源与除二氧化硅以外的无机氧化物源的添加比率,边使多孔复合氧化物微粒(一次粒子)成长,然后除去二氧化硅以外的无机氧化物,制备在外壳内部具有空腔的中空球状二氧化硅类微粒的分散液。然后根据需要清洗二氧化硅类微粒分散液后,在常温~300℃的范围内熟化,进一步在50~300℃的范围内进行水热处理。 |
申请公布号 |
CN1989070A |
申请公布日期 |
2007.06.27 |
申请号 |
CN200580024339.4 |
申请日期 |
2005.07.19 |
申请人 |
触媒化成工业株式会社 |
发明人 |
村口良;熊泽光章;平井俊晴 |
分类号 |
C01B33/18(2006.01);C09D201/00(2006.01) |
主分类号 |
C01B33/18(2006.01) |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 |
代理人 |
杨宏军 |
主权项 |
1、一种二氧化硅类微粒的制备方法,其包括下述工序(a)、(b)、(c)及(e),工序(a):在碱性水溶液中、或在根据需要分散有种粒子的碱性水溶液中,同时加入硅酸盐水溶液及/或酸性硅酸液和碱可溶的无机化合物水溶液,配制复合氧化物微粒的分散液时,添加至摩尔比MOX/SiO2在0.01~2的范围内,其中SiO2表示二氧化硅,MOX表示二氧化硅以外的无机氧化物,配制平均粒径(DP1)在3~300nm的范围内的复合氧化物微粒的分散液;工序(b):以小于所述工序(a)的摩尔比MOX/SiO2的摩尔比MOX/SiO2,添加硅酸盐水溶液及/或酸性硅酸液和碱可溶的无机化合物水溶液,配制平均粒径(DP2)最大为500nm的复合氧化物微粒的分散液;工序(c):在所述复合氧化物微粒分散液中加入酸,除去至少一部分构成所述复合氧化物微粒的除硅之外的元素,得到二氧化硅类微粒分散液;工序(e):根据需要清洗后,在常温~300℃的范围内熟化二氧化硅类微粒分散液。 |
地址 |
日本神奈川县 |