| 发明名称 | 紧密接触型曝光装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光掩模与基板的紧密接触性高的紧密接触型曝光装置。在基板(2)的外侧周围安装框体(3)并通过吸附口(56)吸附固定。通过框体(3)提高光掩模和基板的紧密接触性。此外由于框体(3)是一体的，所以通过吸附而能够可靠固定，并且装卸简单易行，也是为进一步自动化做的准备。在框体(3)的背面形成有流通槽(30)，以便对框体(3)和基板(2)之间形成的间隙(35)进行抽气，从而能够可靠地进行光掩模(1)和基板(2)的紧密接触。 | ||
| 申请公布号 | CN1987655A | 申请公布日期 | 2007.06.27 |
| 申请号 | CN200610110673.8 | 申请日期 | 2006.08.07 |
| 申请人 | 株式会社阿迪泰克工程 | 发明人 | 五十岚晃;田口阳介 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H05K3/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 董惠石 |
| 主权项 | 1、一种紧密接触型曝光装置，其具有：放置印刷电路基板的工作台；描画有应曝光图形并用于与印刷电路基板接触而曝光该图形的光掩模；对所述光掩模和印刷电路基板之间进行密封的密封装置；以及对所述光掩模和印刷电路基板之间进行抽气的抽气装置，其特征在于，所述紧密接触型曝光装置具有框体，该框体为围绕所述印刷电路基板的形状，并且其厚度与印刷电路基板的厚度基本相同，该框体以围绕所述印刷电路基板的方式且在所述密封装置的内侧放置于所述工作台上。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||