发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR DETERMINING CONCENTRATION OF DEFECTS AND/OR IMPURITIES IN A SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 EP1800142(A2) 申请公布日期 2007.06.27
申请号 EP20050795132 申请日期 2005.09.08
申请人 SOLID STATE MEASUREMENTS, INC. 发明人 HOWLAND, WILLIAM, H., JR.;BOBRZYNSKI, BRIAN, R.
分类号 G01R31/26 主分类号 G01R31/26
代理机构 代理人
主权项
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