| 发明名称 | 化学机械抛光垫及化学机械装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供了一种化学机械抛光垫及化学机械装置，该化学机械抛光垫具有主体，该主体具有抛光表面，该抛光表面具有半径、中心区域以及周边区域。抛光表面具有从中心区域径向地向外延伸到周边区域的多个主径向线槽道，每个主径向线槽道在周边区域具有倾斜外部分，该倾斜外部分以相对于抛光表面的半径的一角导向。抛光表面还具有每个由倾斜过渡部分连接到主径向线槽道的多个初级分支径向线槽道，该初级分支径向线槽道与主径向线槽道间隔开。抛光垫在抛光期间提供抛光浆液改进的分布和流动。 | ||
| 申请公布号 | CN2915378Y | 申请公布日期 | 2007.06.27 |
| 申请号 | CN200620000472.8 | 申请日期 | 2006.01.13 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 蒂莫西·詹姆斯·多诺休;文卡塔·R·巴拉伽纳;罗麦恩·比优·德·洛莫尼 |
| 分类号 | B24D17/00(2006.01);B24B37/04(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | B24D17/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王安武 |
| 主权项 | 1.一种化学机械抛光垫，其特征在于，该化学机械抛光垫包括：(a)主体，包括具有半径以及中心区域和周边区域的抛光表面，所述抛光表面包括：(i)多个主径向线槽道，其从所述中心区域径向地向外延伸到所述周边区域，每个主径向线槽道都在所述周边区域具有倾斜外部分；以及(ii)多个初级分支径向线槽道，其每个都通过倾斜过渡部分而连接到主径向线槽道，所述初级分支径向线槽道与所述主径向线槽道间隔开。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||