| 发明名称 | 器件制造方法和计算机程序产品 | ||
| 摘要 | 在以减小间距印刷特征的双曝光处理中，测量在第一曝光中印刷的特征的临界尺寸，并用作第二曝光的目标。 | ||
| 申请公布号 | CN1987658A | 申请公布日期 | 2007.06.27 |
| 申请号 | CN200610169099.3 | 申请日期 | 2006.12.20 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | L·H·M·韦尔斯塔彭;E·C·莫斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王小衡;王忠忠 |
| 主权项 | 1.一种利用光刻设备的器件制造方法，该方法包括：将第一组特征印刷到衬底的目标部分上；测量第一组特征的临界尺寸；计算印刷处理的设置，以在具有与第一组特征的所测临界尺寸匹配的临界尺寸的目标部分上印刷第二组特征；和利用计算的设置，印刷与第一组特征交叉的第二组特征。 | ||
| 地址 | 荷兰费尔德霍芬 | ||