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发明名称 Plasma processing for porous silica thin film
摘要
申请公布号 KR100730633(B1) 申请公布日期 2007.06.22
申请号 KR20027012203 申请日期 2001.03.20
申请人 发明人
分类号 C01B33/12;H01L21/312;H01L21/314;H01L21/316 主分类号 C01B33/12
代理机构 代理人
主权项
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