| 主权项 |
1.一种敏辐射线性树脂组成物,其特征为含有, [A]:(a1)不饱和羧酸及/或不饱和羧酸酐所衍生构成 单元5~40重量%,(a2)选自环氧丙基甲基丙烯酸酯、甲 基丙烯酸-6,7-环氧庚酯、邻乙烯基基环氧丙基 醚、间乙烯基基环氧丙基醚、对乙烯基基环 氧丙基醚及3,4-环氧基环己基甲基丙烯酸酯所成群 之至少一种含环氧基不饱和化合物所衍生构成单 元10~70重量%,(a3)选自四氢糠基(甲基)丙烯酸酯、聚 乙二醇(n=2~10)单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四 氢喃-3-基酯、1-(四氢喃-2-氧基)-丁基-3-烯-2- 酮及糠基(甲基)丙烯酸酯 所成群之至少一种不饱和化合物所衍生构成单元5 ~50重量%及(a4)选自(甲基)丙烯酸烷酯、(甲基)丙烯 酸环状烷酯、具有羟基之(甲基)丙烯酸酯、(甲基) 丙烯酸芳基酯、不饱和二羧酸二酯、双环不饱和 化合物、顺丁烯二醯亚胺化合物、不饱和芳香族 化合物、共轭二烯所成群之至少一种不饱和化合 物所衍生构成单元5~70重量%所成共聚物,以及 [B]选自三羟苯并二苯甲酮与1,2-二叠氮磺酸卤 化物之缩合物、四羟苯并二苯甲酮与1,2-二叠 氮磺酸卤化物之缩合物、五羟苯并二苯甲酮与1,2- 二叠氮磺酸卤化物之缩合物、六羟苯并二苯 甲酮与1,2-二叠氮磺酸卤化物之缩合物及(聚 羟苯基)链烷与1,2-二叠氮磺酸卤化物之缩合 物所成群之至少一种1,2-苯酝二叠氮化合物,相对 于共聚物[a]100重量份,为含有5~100重量份者。 2.如申请专利范围第1项之敏辐射线性树脂组成物, 其为层间绝缘膜形成用。 3.如申请专利范围第1项之敏辐射线性树脂组成物, 其为微透镜形成用。 图式简单说明: 第1图系,微透镜之剖面形状之模式图。 |
