发明名称 具有中间基板之堆叠构装结构及其制造方法
摘要 本发明为一种具有中间基板之堆叠构装结构及其制造方法。其系包括一第一封装体、一第二封装体以及一介于其间的中间基板。该第一封装体与第二封装体各具有一载板、至少一半导体晶片及若干焊球;该中间基板中间设有一中空部及对应该第一封装体与第二封装体之该些焊球位置设有对应之复数个穿孔,藉由该些结构之堆叠组装后形成一可改善焊球接点间产生虚焊、封装体间产生对正不良、封装体载板翘曲以及摔落试验可靠性的系统化封装之具有中间基板之堆叠构装结构。
申请公布号 TWI283051 申请公布日期 2007.06.21
申请号 TW094107575 申请日期 2005.03.11
申请人 日月光半导体制造股份有限公司 发明人 郑明祥;戴惟璋;朱吉植;刘百洲
分类号 H01L23/31(2006.01) 主分类号 H01L23/31(2006.01)
代理机构 代理人 陈瑞田 高雄县凤山市建国路3段256之1号
主权项 1.一种具有中间基板之堆叠构装结构,包括: 一第一封装体,该第一封装体具有一载板,在该载 板表面配置至少一半导体晶片,且该载板之另一表 面配置有复数个焊球; 一第二封装体,该第二封装体具有一载板,在该载 板表面配置至少一半导体晶片;以及 一中间基板,该中间基板介于该第一封装体之该载 板与该第二封装体之该载板之间,且该中间基板之 对应该第二封装体之该半导体晶片位置设有一中 空部,该中间基板对应该第一封装体之该些焊球位 置设有对应之复数个穿孔。 2.如申请专利范围第1项所述之结构,其中该中间基 板之材料为FR4树酯或BT树酯。 3.如申请专利范围第1项所述之结构,其中该些穿孔 之孔壁电镀一金属层。 4.如申请专利范围第1项或第3项所述之结构,其中 该些穿孔之截面呈柱型。 5.如申请专利范围第1项或第3项所述之结构,其中 该些穿孔之截面呈锥型。 6.如申请专利范围第1项或第3项所述之结构,其中 该些穿孔之截面呈沙漏型。 7.如申请专利范围第1项所述之结构,其中该第一封 装体之该半导体晶片与该第二封装体之该半导体 晶片系不同功能之半导体晶片。 8.如申请专利范围第1项所述之结构,其中该第一封 装体配置该半导体晶片之该载板表面更包含配置 至少一被动元件。 9.一种具有中间基板之堆叠构装制造方法,至少包 含下列步骤: 提供一第一封装体,该第一封装体具有一载板、至 少一半导体晶片及复数个焊球; 黏合一中间基板于该第一封装体之该载板上,该中 间基板设有一第一表面、一第二表面与一开口,且 对应该第一封装体之该些焊球位置设有复数个穿 孔,该些穿孔对正并套入该第一封装体之该些焊球 ; 涂布一助焊剂于该中间基板之该些穿孔内,以润湿 该些焊球; 提供一第二封装体,该第二封装体配置至少一半导 体晶片及复数个焊球,该半导体晶片系容置于该中 间基板之中空部内,且该第二封装体以该些焊球对 正于该中间基板之该些穿孔后,堆叠配置于该第一 封装体上;以及 进行回焊及烘烤制程以电性接合该第一封装体与 第二封装体。 10.如申请专利范围第9项所述之具有中间基板之堆 叠构装制造方法,其中该制程于该黏合该中间基板 与该第一封装体之步骤之前更进一步包含: 涂布一黏着剂于该中间基板之该第一表面。 11.如申请专利范围第10项所述之具有中间基板之 堆叠构装制造方法,其中该黏着剂系为UV黏胶。 12.如申请专利范围第10项所述之具有中间基板之 堆叠构装制造方法,其中该黏着剂系为热塑性黏胶 。 13.如申请专利范围第9项所述之具有中间基板之堆 叠构装制造方法,其中该制程于该黏合该中间基板 与该第一封装体之步骤与该提供一第二封装体之 步骤之间更进一步包含: 涂布一黏着剂于该中间基板之该第二表面。 14.如申请专利范围第13项所述之具有中间基板之 堆叠构装制造方法,其中该黏着剂系为UV黏胶。 15.如申请专利范围第13项所述之具有中间基板之 堆叠构装制造方法,其中该黏着剂系为热塑性黏胶 。 16.如申请专利范围第9项所述之具有中间基板之堆 叠构装制造方法,其中该中间基板之该些穿孔之孔 壁电镀一金属层。 17.如申请专利范围第9项所述之具有中间基板之堆 叠构装制造方法,其中该第一封装体之该半导体晶 片与该第二封装体之该半导体晶片系不同功能之 半导体晶片。 18.如申请专利范围第9项所述之具有中间基板之堆 叠构装制造方法,其中该第一封装体之该载板更包 含配置于该表面之至少一被动元件。 图式简单说明: 第1图 系习知系统化构装件之堆叠构装制程。 第2图 系本发明之具有中间基板之堆叠构装结构 。 第3图 系第2图之制造流程示意图。 第4图 系本发明之中间基板穿孔之不同截面实施 例。
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