| 发明名称 |
Pixelated masks for high resolution photolithography |
| 摘要 |
Some embodiments of the present invention include apparatuses and methods relating to pixelated masks for high resolution photolithography.
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| 申请公布号 |
US2007143732(A1) |
申请公布日期 |
2007.06.21 |
| 申请号 |
US20050292857 |
申请日期 |
2005.12.01 |
| 申请人 |
INTEL CORPORATION |
发明人 |
BOLLEPALLI SRINIVAS B.;DAVIDS PAUL S.;SINGH VIVEK |
| 分类号 |
G06F17/50;G03F7/00;G06K9/00 |
主分类号 |
G06F17/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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